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湿法刻蚀

特征：耐氧，耐氟，广泛的耐化学性，高洁净度

用途：半导体和液晶制造装置中，暴露于腐蚀性化学品和等离子的工作环境

对象装置：CVD装置、PVD装置、刻蚀，清洗装置

具体牌号：T310

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湿法刻蚀

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