当前位置： 超高洁净度材质
特征：具备百级洁净的生产条件和严苛的质量控制，同时赋予产品超强抗腐蚀能力和超高的洁净度，从而满足半导体先进工艺对金属离子含量、放气率、 析出物的严苛要求。
超高洁净度材质
特征：具备百级洁净的生产条件和严苛的质量控制，同时赋予产品超强抗腐蚀能力和超高的洁净度，从而满足半导体先进工艺对金属离子含量、放气率、 析出物的严苛要求。
・用途：半导体和液晶制造装置中，暴露于腐蚀性化学品和等离子的工作环境
・对象装置：刻蚀、CVD、PVD、清洗、CMP、镀铜装置等
・具体牌号：T19、T83、T315、T320、T110、T7502、TG160、TG17
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